- 研究納米臭氧/H2O2工藝去除半導體廢水中TMAH
強調(diào) 納米臭氧/ H2O2工藝在pH 10和25C下對TMAH的去除效果好。 使用納米臭氧時，氣體傳質(zhì)和臭氧氣體的半衰期增加了 納米臭氧/ H2O2反應產(chǎn)生了可除去TMAH的OH自由基。 在90分鐘內(nèi)，TMAH中80％ . . .
相關文章
- M1000高精度臭氧機
- 材料耐臭氧性圖表
- 清華最新成果：電催化臭氧技術(shù)用于水處理
- 水中臭氧檢測方法 國家標準
- 如何確定水處理所需的臭氧投加量
- 臭氧催化氧化對水中氯苯甲酸去除率研究
- 軍事醫(yī)學科學院臭氧殺菌實驗現(xiàn)場
- 中國農(nóng)業(yè)大學降解水中農(nóng)藥實驗
- 如何測量臭氧發(fā)生器輸出的臭氧濃度或產(chǎn)量
- 臭氧溶解于水濃度為什么上不去
- 美國2b 106-L 臭氧檢測儀（0-100ppm）
- 北京林大臭氧高級氧化實驗
- 如何提高臭氧溶解度
- 使用臭氧去除鐵和錳
- 中科院微生物物理所空間消毒
- 質(zhì)量流量計的測量原理是什么呢
- 臭氧催化氧化對BTEX 的降解效果
- 實驗用臭氧降解土壤中有機物的實驗裝置
- 紫外線制造臭氧發(fā)生器
- 水中臭氧與紫外線消毒的比較
共 1頁1條記錄
